Тетракис (триметилсилилокси) силан - Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane
 | |
| Идентификаторлар | |
|---|---|
| Қысқартулар | TTMS |
| UNII | |
| Қасиеттері | |
| C12H36O4Si5 | |
| Молярлық масса | 384.841 г · моль−1 |
| Сыртқы түрі | Түссіз сұйықтық |
| Тығыздығы | 0,87 г см−3[1] |
| Еру нүктесі | -60 ° C (-76 ° F; 213 K) |
| Қайнау температурасы | 103–106 ° C (217–223 ° F; 376–379 K) |
| Бу қысымы | 8,96 Па (25 ° C) |
Сыну көрсеткіші (nД.) | 1.389 |
| Қауіпті жағдайлар | |
ЕО классификациясы (DSD) (ескірген) |  Xi |
| Тұтану температурасы | 80 ° C (176 ° F; 353 K) |
| Байланысты қосылыстар | |
Байланысты қосылыстар | Гексаметилдисилоксан |
Өзгеше белгіленбеген жағдайларды қоспағанда, олар үшін материалдар үшін деректер келтірілген стандартты күй (25 ° C [77 ° F], 100 кПа). | |
 тексеру (бұл не   ?) | |
| Infobox сілтемелері | |
Тетракис (триметилсилилокси) силан (TTMS) болып табылады кремнийорганикалық қосылыс Si [OSi (CH.) формуласымен3)3]4. Бұл түссіз сұйықтық реактив ретінде қолданылады органикалық синтез.[2]
Қолдану
TTMS-ті жіңішке пленкамен жабу үшін қолдануға болады наноқұрылымды кремний диоксиді орындалған плазмамен жақсартылған химиялық будың тұнбасы (PECVD) атмосфералық қысым кезінде.[3]
Әдебиеттер тізімі
- ^ «Химиялық кітап».
- ^ Флеминг, I (2002). Синтез туралы ғылым: Хубен-Вейл молекулалық трансформация әдістері. Штутгарт: Георг Тием Верлаг. б. 1060. ISBN 3-13-112171-8.
- ^ Шефер, Дж; Хнилика, Дж; Сперка, Дж; Quade, A; Кудрле, V; Foest, R; Водак, Дж; Зажикова, Л (2016). «PECVD атмосфералық қысыммен жинақтаған SiO2 тәрізді наноқұрылымды пленкаларға арналған тетракис (триметилсилилокси) силаны». Беттік және жабындық технологиялар. 295 (295): 112–118. дои:10.1016 / j.surfcoat.2015.09.047.